マシンビジョンライティング株式会社 Machine Vision Lighting Inc.
 
2019/11/19  ・弊社の代表が講師を務める照明技術セミナーの本年度第２回目の講義となる応用編が、去る、11月14,15日、千葉幕張の高度ポリテクセンターで、開催されました。 ・２クール目は、補講も定員満杯で開催された基礎編に引き続き、やはり定員一杯で、いつもながら日本を代表する一流企業から、マシンビジョン画像処理関連システムに携わる第一線の技術者が参加されました。 ・今回は、前回の基礎編から引き続いて受講される方が多く、終始和やかな雰囲気の中で講義が進められ、今回の応用編は実践編に匹敵するくらい、本質により近づくことが出来ました。  ・講義と組み合わせてあるそれぞれの実習では、講義の内容を、自らの手を動かして理解を深めることができます。  ・実習で苦心して撮像した特徴点が、V-ISA照明では、いとも簡単に撮像できる様には、溜息混じりで一層感の感動を与えたようで、質問も多く出されました。  ・以下、参加者の声を掲載させていただき、ご報告に変えさせていただきます。 ・現存の課題解決につながる内容が聞けたのが、良かった。 ・ライティングの基礎理論としてV-ISAメソッドの中核を為す、観察立体角と照射立体角んぼ考え方が、大変役に立った。 ・ライティングの応用例としては、金属表面の凹凸の検出などが、大変役に立った。 ・（本セミナーの最後に実施された、）（梨地金属の）ワークに対して、自分なりに検討して解を見つけると言う実習は、実践的で非常に良かったです。 ・カラーカメラが、どのように色を捕らえて認識しているか、また、RGBそれぞれの強度がどのように色座評価されるのか、等をより深く知りたかった。 →この内容は、実践編、発展編で実験データを交えて解説されますので、ご参加をお待ちしております。 ・今回のセミナー全般で、立体角という概念が得られたことが良かった。→立体角の考え方は、V-ISAメソッドの中核を為す考え方ですので、お役に立てて、良かったです。 ・ライティングの応用例として、分散直接光の考え方が、大変役に立った。→これは、従来に無い考え方ですので、きっとこれからの実務に役立つものと思います。 ・ライティングの実習としては、打痕の検出方法が大変役に立った。 ・観察側（レンズやカメラ）の使用に対する特徴や選定方法を、より深く知りたい。→この照明技術セミナーの中では、特にこの内容に焦点を当てているところはありませんが、ぜひ、弊社の技術コンサルを利用してみてください。実際の例に合わせて、その妙に感動して頂けることと思います。 ・照射立体角と観察立体角の関係が、直感的にわかるようになったのが良かった。 ・基礎的な考え方を基にして理解を深めることが出来た。 ・実験を通して、角要素の影響を体感することが出来た。 ・基礎となる考え方を、色々な角度から深めていくアプローチが良かった →実践編、発展編では、今度はそちらの方向により強く焦点が当たっているので、楽しみにしてください。 ・（実習）実験の最後に、なぜそうなるのかを、もう少し詳しく聞きたかった。 →ご提案、どうもありがとうございます。今回は実験後の質問が少なめでしたので、そのようにお感じになったのかも知れませんね。次回より、もう少し、実験後の解説に力を入れるように致します。 ・ライティングの基礎理論として、照射立体角と観察立体角の包含関係によって得られる情報が異なることが分かった。→それが、V-ISAメソッドの基礎理論ですので、それが体感できたことは大変良かったと思います。 ・直接光を撮像しているから輝度は変わらないと思っていたが、照射立体角と観察立体角（の相対関係）によって変わることがよく分かった。→これも、V-ISAメソッドの重要な勘所です。 ・実習が多く、内容を納得しやすかったです。 ・接写リングの使い方が分かりづらかったです。 →申し訳ありませんでした。質問をして頂ければ良かったですね。 ・直接光と散乱光、その性質、特に、直接光と分散直接光の違いが理解でき、大変役に立った。 ・直接光をどのように利用すべきかが何となく分かってきた。また、実習を通して、それぞれの光の特性がより深く理解できた。 ・V-ISA照明の中味について、より深く知りたい。→発展編では実際にV-ISA照明を使用して、その設置方法と最適化手法を習得するので、ご参加をお待ちしております。 ・難しかったですが、少しだけ理解が出来ました。今まで、何となくそうなるという感じでやってきていましたが、理論を知れて良かったです。 →良かったですね。それが、これからのものづくりの礎になると思いますので、益々のご発展をお祈りしています。  〈今後の予定〉………………………………………………………………………………… ・「マシンビジョン画像処理システムのための新しいライティング技術（基礎編）」 　　　2019年 6/20(木),21(金)　終了 　　　2019年10/ 8(木), 9(金)　（補講開催決定）　終了 　　　2019年10/10(木),11(金)　終了　 （ 基礎編： カリキュラム詳細） http://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/2019/V0082.html ・「マシンビジョン画像処理システムのための新しいライティング技術（応用編）」 　　　2019年 7/18(木),19(金)　終了 　　　2019年11/14(木),15(金)　終了 （ 応用編： カリキュラム詳細） http://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/2019/V0092.html ・「マシンビジョン画像処理システムのための新しいライティング技術（実践編）」 　　　2019年 8/ 8(木), 9(金)　終了 　　　2019年12/12(木),13(金)　 （ 実践編： カリキュラム詳細） http://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/2019/V0192.html ・「マシンビジョン画像処理システムのための新しいライティング技術（発展編）」 　　　2019年 9/12(木),13(金)　終了 　　　2020年 1/23(木),24(金) （ 発展編： カリキュラム詳細） http://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/2019/V0292.html …………………………………………………………………………………………………… ・参加希望の方は、 http://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/01_02.html を開いて、必要な申し込み書類をダウンロードし、高度ポリテクに直接、お申し込みください。 なお、キャンセル待ちの場合、今期は高度ポリテク様の方で補講の目途が立たないようですので、弊社の個別セミナーにお申し込みください。 個別セミナーは、こちらから 戻る http://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/2019/V0083.htmlhttp://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/2019/V0082.htmlhttp://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/2019/V0092.htmlhttp://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/2019/V0192.htmlhttp://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/2019/V0292.htmlhttp://www.apc.jeed.or.jp/zaishoku/01_02.htmlSeminar.htmlWhats_new.htmlshapeimage_2_link_0shapeimage_2_link_1shapeimage_2_link_2shapeimage_2_link_3shapeimage_2_link_4shapeimage_2_link_5shapeimage_2_link_6shapeimage_2_link_7